検索項目コード

検索対象によって、検索可能な種別が異なります。

  1. 長文テキスト系: 部分一致/近傍
  2. 数値/日付:不等号、 範囲
  3. その他の属性情報: 完全一致/前方一致/あいまい一致

"出願人/譲受人/権利者(出願/付与/最新)"など横断でのコードは部分一致での検索が可能ですが、"出願人 (JP:最新)"などは完全一致または前方一致での検索が必要となっているので注意して下さい。
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説明コード(省略)コード検索種別
名称/要約/請求の範囲/明細書/審査官フリーワードKWkeywords部分一致/近傍
名称/要約/請求の範囲KWCkeyword_claims部分一致/近傍
名称/要約/請求の範囲/明細書KWDkeyword_desc部分一致/近傍
セマンティック検索(名称/要約/請求の範囲/明細書/審査官フリーワード)SEsemanticsemantic
セマンティック検索(名称/要約/請求の範囲)SECsemantic_claimssemantic
セマンティック検索(請求の範囲)SEACsemantic_all_claimssemantic
セマンティック検索(請求の範囲 トップクレーム)SETCsemantic_top_claimsemantic
セマンティック検索(名称)SETIsemantic_titlesemantic
セマンティック検索(要約)SEABsemantic_abstractsemantic
セマンティック検索(JP:技術分野/背景技術/課題/効果)SETBPEsemantic_tbpesemantic
セマンティック検索(JP:技術分野/背景技術/課題/効果/解決手段)SETBPESsemantic_tbpessemantic
セマンティック検索(JP:技術分野/背景技術/課題/効果/利用可能性)SETBPEAsemantic_tbpeasemantic
セマンティック検索(JP:課題)SEPBsemantic_problemsemantic
セマンティック検索(JP:効果)SEEFsemantic_effectsemantic
セマンティック検索(JP:技術分野)SETFsemantic_technical_fieldsemantic
セマンティック検索(JP:背景技術)SEBGsemantic_backgroundsemantic
セマンティック検索(JP:課題を解決するための手段)SESLsemantic_solutionsemantic
セマンティック検索(JP:産業上の利用可能性)SEACsemantic_applicabilitysemantic
セマンティック検索(引用関係)SETsemantic_citationsemantic
セマンティック検索[複数番号x母集団] (実験機能)SEMsemantic_multisemantic
セマンティックスコア(名称/要約/請求の範囲/明細書/審査官フリーワード)SESsemantic_scoresemantic
セマンティックスコア(名称/要約/請求の範囲)SESCsemantic_score_claimssemantic
セマンティックスコア(請求の範囲)SESACsemantic_score_all_claimssemantic
セマンティックスコア(請求の範囲 トップクレーム)SESTCsemantic_score_top_claimsemantic
セマンティックスコア(名称)SESTIsemantic_score_titlesemantic
セマンティックスコア(要約)SESABsemantic_score_abstractsemantic
セマンティックスコア(JP:技術分野/背景技術/課題/効果)SESTBPEsemantic_score_tbpesemantic
セマンティックスコア(JP:技術分野/背景技術/課題/効果/解決手段)SESTBPESsemantic_score_tbpessemantic
セマンティックスコア(JP:技術分野/背景技術/課題/効果/利用可能性)SESTBPEAsemantic_score_tbpeasemantic
セマンティックスコア(JP:課題)SESPBsemantic_score_problemsemantic
セマンティックスコア(JP:効果)SESEFsemantic_score_effectsemantic
セマンティックスコア(JP:技術分野)SESTFsemantic_score_technical_fieldsemantic
セマンティックスコア(JP:背景技術)SESBGsemantic_score_backgroundsemantic
セマンティックスコア(JP:課題を解決するための手段)SESSLsemantic_score_solutionsemantic
セマンティックスコア(JP:産業上の利用可能性)SESACsemantic_score_applicabilitysemantic
セマンティックスコア(引用関係)SESTsemantic_score_citationsemantic
名称TItitle部分一致/近傍
要約ABabstract部分一致/近傍
請求の範囲 (出願/付与)CLclaims部分一致/近傍
請求の範囲 トップクレーム (出願/付与)TCLtop_claim部分一致/近傍
請求の範囲 (出願)ACLapp_claims部分一致/近傍
請求の範囲 (付与)GCLgrant_claims部分一致/近傍
明細書DEdescription部分一致/近傍
課題 (JP)PBproblem部分一致/近傍
効果 (JP)EFeffect部分一致/近傍
技術分野 (JP)TFtechnical_field部分一致/近傍
背景技術 (JP)BGbackground部分一致/近傍
課題を解決するための手段 (JP)SLsolution部分一致/近傍
産業上の利用可能性 (JP)ACapplicability部分一致/近傍
和文抄録 名称 (JPO)JATIjpo_summary_title部分一致/近傍
和文抄録 (JPO)JASMjpo_summary部分一致/近傍
出願人/譲受人/権利者 (出願/付与/最新)APPapplicants部分一致/近傍
出願人/譲受人/権利者 住所 (出願/付与/最新)APPADapplicants_addr部分一致/近傍
代理人/特許事務所 (出願/付与/最新)ATTattorneys部分一致/近傍
発明者 (出願/付与/最新)INVinventors部分一致/近傍
発明者 住所 (出願/付与/最新)INVADinventors_addr部分一致/近傍
出願国CNTcountry完全一致/前方一致/あいまい
公開種別 (Kind Code)KNDkinds完全一致/前方一致/あいまい
出願番号ANapp_id完全一致/前方一致/あいまい
出願番号(オリジナル)ANOapp_id_o完全一致/前方一致/あいまい
出願番号(DOCDB形式)ANDapp_id_d完全一致/前方一致/あいまい
出願日ADapp_date完全一致/範囲/不等号
出願年AYapp_year完全一致/前方一致/あいまい
出願月AMapp_month完全一致
シリーズコード (US)SCseries_code完全一致/前方一致/あいまい
ファミリー非代表REis_no_representative完全一致/前方一致/あいまい
公開番号PNpub_id完全一致/前方一致/あいまい
公開番号(オリジナル)PNOpub_id_o完全一致/前方一致/あいまい
公開日PDpub_date完全一致/範囲/不等号
公開年PYpub_year完全一致/前方一致/あいまい
公開月PMpub_month完全一致
登録番号ENexam_id完全一致/前方一致/あいまい
登録番号(オリジナル)ENOexam_id_o完全一致/前方一致/あいまい
登録発行日EDexam_date完全一致/範囲/不等号
登録発行年EYexam_year完全一致/前方一致/あいまい
登報発行月EMexam_month完全一致
登録日RDreg_date完全一致/範囲/不等号
登録年RYreg_year完全一致/前方一致/あいまい
登録月RMreg_month完全一致
PCT公開番号WPNwo_pub_id完全一致/前方一致/あいまい
PCT公開日WPDwo_pub_date完全一致/範囲/不等号
PCT出願番号WANwo_app_id完全一致/前方一致/あいまい
PCT翻訳文提出日WTDwo_trans_date完全一致/範囲/不等号
IPCセクションIPCSECipc_sections完全一致/前方一致/あいまい
IPCクラスIPCCLSipc_classes完全一致/前方一致/あいまい
IPCサブクラスIPCSUBCLSipc_subclasses完全一致/前方一致/あいまい
IPCメイングループIPCMGipc_maingroups完全一致/前方一致/あいまい
IPCIPCipcs完全一致/前方一致/あいまい
筆頭IPCIPCMAINipc_main完全一致/前方一致/あいまい
JST/RISTEX 社会問題キーワードJSTPBsocial_problems完全一致/前方一致/あいまい
JST/RISTEX 社会問題キーワード 中項目JSTPBSCsocial_problems_s_classes完全一致/前方一致/あいまい
JST/RISTEX 社会問題キーワード 大項目JSTPBLCsocial_problems_l_classes完全一致/前方一致/あいまい
JST/RISTEX 社会問題キーワード (要約)JSTPBAsocial_problems_in_ab完全一致/前方一致/あいまい
JST/RISTEX 社会問題キーワード (課題)JSTPBPsocial_problems_in_pb完全一致/前方一致/あいまい
NISTEP技術分類NSTECnistep_classes完全一致/前方一致/あいまい
WIPO技術分類WOTECwipo_techs完全一致/前方一致/あいまい
JPO審査部技術分類JPOSECjpo_sections完全一致/前方一致/あいまい
JPO審査部技術単位JPOCLSjpo_l_classes完全一致/前方一致/あいまい
JPO審査部技術分野JPOTECjpo_techs完全一致/前方一致/あいまい
CPCCPCcpcs完全一致/前方一致/あいまい
特徴キーワード(タイトル/要約/請求の範囲/明細書/審査官キーワード)FWword_weights完全一致/前方一致/あいまい
特徴キーワード(名称/要約/請求の範囲)CWclaims_weights完全一致/前方一致/あいまい
特徴キーワード(請求の範囲)ACWall_claims_weights完全一致/前方一致/あいまい
特徴キーワード(名称)TIWtitle_weights完全一致/前方一致/あいまい
特徴キーワード(要約)ABWabstract_weights完全一致/前方一致/あいまい
特徴キーワード(JP:技術分野/背景技術/課題/効果)TBPEWtbpe_weights完全一致/前方一致/あいまい
特徴キーワード(JP:技術分野/背景技術/課題/効果/解決手段)TBPESWtbpes_weights完全一致/前方一致/あいまい
特徴キーワード(JP:技術分野/背景技術/課題/効果/利用可能性)TBPEAWtbpea_weights完全一致/前方一致/あいまい
特徴キーワード(請求の範囲 トップクレーム)TCWtop_claim_weights完全一致/前方一致/あいまい
特徴キーワード(JP:課題)PBWproblem_weights完全一致/前方一致/あいまい
特徴キーワード(JP:効果)EFWeffect_weights完全一致/前方一致/あいまい
特徴キーワード(JP:技術分野)TFWtechnical_field_weights完全一致/前方一致/あいまい
特徴キーワード(JP:背景技術)BGWbackground_weights完全一致/前方一致/あいまい
特徴キーワード(JP:課題を解決するための手段)SLWsolution_weights完全一致/前方一致/あいまい
特徴キーワード(JP:産業上の利用可能性)APWapplicability_weights完全一致/前方一致/あいまい
優先権主張番号PRNpriority_claims完全一致/前方一致/あいまい
優先国PRCNTpriority_countries完全一致/前方一致/あいまい
優先日PRDpriority_dates完全一致/範囲/不等号
原出願番号PANparents完全一致/前方一致/あいまい
原出願種別PATparent_types完全一致/前方一致/あいまい
原出願日PADparent_dates完全一致/範囲/不等号
原出願数PACparents_count完全一致/範囲/不等号
遡及日RETDretroacted_date完全一致/範囲/不等号
請求項数 (付与)GRCLCgrant_claim_count完全一致/範囲/不等号
請求項 (出願) 文字数APCLCHapp_claims_size完全一致/範囲/不等号
請求項 (付与) 文字数GRCLCHgrant_claims_size完全一致/範囲/不等号
請求項 トップクレーム 文字数TCLCHtop_claim_size完全一致/範囲/不等号
明細書 文字数DECLCHdescription_size完全一致/範囲/不等号
被引用件数 (JP・US)CITINGCciting_count完全一致/範囲/不等号
引用件数CITEDTCcited_total_count完全一致/範囲/不等号
引用件数 (国内)CITEDCcited_count完全一致/範囲/不等号
引用件数 (国外)CITEDFCcited_foreign_count完全一致/範囲/不等号
被引用特許 (JP・US)CITINGANciting_patents_app完全一致/前方一致/あいまい
引用特許CITEDPNcited_patents完全一致/前方一致/あいまい
引用特許 (JP・US 出願番号)CITEDANcited_patents_app完全一致/前方一致/あいまい
引用特許 審査官以外CITEDOTPNcited_patents_by_others完全一致/前方一致/あいまい
引用特許種別CITEDTPcited_patent_types完全一致/前方一致/あいまい
引用特許 起案日CITEDDcited_patent_dates完全一致/範囲/不等号
引用特許 (国外)CITEDFPNcited_foreign_patents完全一致/前方一致/あいまい
引用特許 国 (国外)CITEDPCNTcited_foreign_patent_countries完全一致/前方一致/あいまい
引用特許 審査官以外 (国外)CITEDFOTPNcited_foreign_patents_by_others完全一致/前方一致/あいまい
引用文献 (非特許)CITEDDOCcited_documents部分一致/近傍
引用文献 審査官以外 (非特許)CITEDDOCOTcited_documents_by_others部分一致/近傍
引用カテゴリー (JP)CITEFCAcitation_forward_categories完全一致/前方一致/あいまい
引用日 (JP)CITEFDcitation_forward_dates完全一致/範囲/不等号
被引用カテゴリー (JP)CITEBCAcitation_back_categories完全一致/前方一致/あいまい
被引用日 (JP)CITEBDcitation_back_dates完全一致/範囲/不等号
新規性喪失の例外LONlack_of_novelties部分一致/近傍
FIサブクラスFISUBCLSfi_subclasses完全一致/前方一致/あいまい
FIメイングループFIMGfi_maingroups完全一致/前方一致/あいまい
FIFIfis完全一致/前方一致/あいまい
FIファセットFIFfi_facets完全一致/前方一致/あいまい
テーマコードTHthemes完全一致/前方一致/あいまい
FタームFTfterms完全一致/前方一致/あいまい
審査官フリーワードFRfreewords部分一致/近傍
意匠分類DCdesign_classifications完全一致/前方一致/あいまい
画像意匠分類IDCimage_design_classifications完全一致/前方一致/あいまい
DタームDTd_terms完全一致/前方一致/あいまい
国内優先権主張番号 (JP)PRNJPpriority_claims_jp完全一致/前方一致/あいまい
原出願番号 (JP)PANJPparents_jp完全一致/前方一致/あいまい
関連意匠REDErelated_designs完全一致/前方一致/あいまい
本意匠PRDEprincipal_designs完全一致/前方一致/あいまい
本意匠に係る他の関連意匠の意匠登録番号CODEconserned_designs完全一致/前方一致/あいまい
部分意匠PADEpart_design完全一致/範囲/不等号
請求項数 (出願) (JP)APCLCapp_claim_count完全一致/範囲/不等号
審査請求数 (JP)AMREQapm_req_exam完全一致/範囲/不等号
審査請求日 (JP)AMREQDapm_req_exam_date完全一致/範囲/不等号
早期審査 (JP)AMACCapm_accelerated_exam完全一致/前方一致/あいまい
早期審査 提出日 (JP)AMACCDapm_accelerated_exam_date完全一致/範囲/不等号
審査記録 最終処分コード (JP)AMFEapm_detail_app_final_exam完全一致/前方一致/あいまい
審査記録 最終処分日 (JP)AMEDapm_detail_app_exam_date完全一致/範囲/不等号
審査記録 査定種別コード (JP)AMFDapm_detail_app_final_decision完全一致/前方一致/あいまい
審査記録 査定日 (JP)AMDDapm_detail_app_decision_date完全一致/範囲/不等号
審査記録 中間コード (JP)AMCapm_examine_codes完全一致/前方一致/あいまい
情報提供受付日 (JP)AMODapm_offer_dates完全一致/範囲/不等号
情報提供最終受付日 (JP)AMOLDapm_offer_last_date完全一致/範囲/不等号
拒絶理由条文コード (JP)AMRCapm_rejection_codes完全一致/前方一致/あいまい
拒絶理由通知書 発送日 (JP)AMRDapm_rejection_dates完全一致/範囲/不等号
拒絶理由通知書 最終発送日 (JP)AMRLDapm_rejection_last_date完全一致/範囲/不等号
権利抹消識別 (JP)RMRCrgm_detail_reg_cancel完全一致/前方一致/あいまい
登録記録 査定日 (JP)RMFDrgm_dec_date_final_date完全一致/前方一致/あいまい
登録記録 審決日 (JP)RMDDrgm_dec_date_trial_date完全一致/範囲/不等号
存続期間満了日 (JP)RMFDrgm_detail_reg_final_date完全一致/範囲/不等号
権利消滅日 (JP)RMTDrgm_detail_reg_term_end_date完全一致/範囲/不等号
次期年金納付期限日 (JP)RMNDrgm_next_date完全一致/範囲/不等号
最終納付年分 (JP)RMTYrgm_term_year完全一致/範囲/不等号
登録後最大存続年数(JP)RMTLrgm_max_life_period完全一致/範囲/不等号
概算最大年金納付費用(JP)RMMCrgm_max_maintain_cost_estimate完全一致/範囲/不等号
概算年金納付済費用(JP)RMPCrgm_paid_maintain_cost_estimate完全一致/範囲/不等号
登録記録 中間コード (JP)RMCrgm_regist_codes完全一致/前方一致/あいまい
登録記録 特許料納付コード (JP)RMPYCrgm_payment_codes完全一致/前方一致/あいまい
特許料納付日 (JP)RMPYDrgm_payment_dates完全一致/範囲/不等号
最終特許料納付日 (JP)RMPYLDrgm_payment_last_date完全一致/範囲/不等号
権利者/出願人横断 原語CRAPPcross_applicants完全一致/前方一致/あいまい
出願人横断 英語CREAPPcross_en_applicants完全一致/前方一致/あいまい
出願人 (JP:名寄せ)STAPPstd_applicants完全一致/前方一致/あいまい
出願人 都道府県 (JP:名寄せ)STAPPPRFstd_applicants_pref_code完全一致/前方一致/あいまい
出願人 地域 (JP:名寄せ)STAPPPRGstd_applicants_region完全一致/前方一致/あいまい
出願人 上場市場 (JP:名寄せ)STAPPSTMstd_applicants_stock_market完全一致/前方一致/あいまい
出願人 証券コード (JP:名寄せ)STAPPSECstd_applicants_sec_code完全一致/前方一致/あいまい
出願人 証券コード協会業種大分類 (JP:名寄せ)STAPPLCLSstd_applicants_l_class完全一致/前方一致/あいまい
出願人 証券コード協会業種小分類 (JP:名寄せ)STAPPSCLSstd_applicants_s_class完全一致/前方一致/あいまい
出願人 企業規模 (JP:名寄せ)STAPPCSLstd_applicants_comp_size_law完全一致/前方一致/あいまい
出願人 資本金階級 (JP:名寄せ)STAPPCSCstd_applicants_comp_size_cap完全一致/前方一致/あいまい
出願人 従業員数階級 (JP:名寄せ)STAPPCSEstd_applicants_comp_size_emp完全一致/前方一致/あいまい
出願人 日本標準産業分類コード (JP:名寄せ)STAPPJSCstd_applicants_jsic_code完全一致/前方一致/あいまい
出願人 日本標準産業分類(大分類)(JP:名寄せ)STAPPJCLstd_applicants_jsic_l完全一致/前方一致/あいまい
出願人 日本標準産業分類(中分類)(JP:名寄せ)STAPPJCMstd_applicants_jsic_m完全一致/前方一致/あいまい
出願人 日本標準産業分類(小分類)(JP:名寄せ)STAPPJCSstd_applicants_jsic_s完全一致/前方一致/あいまい
出願人 EDINETコード (JP:名寄せ)STAPPEDCstd_applicants_edinet_code完全一致/前方一致/あいまい
出願人 法人番号 (JP:名寄せ)STAPPCPNstd_applicants_corp_num完全一致/前方一致/あいまい
出願人 学校種別 (JP:名寄せ)STAPPACTstd_applicants_academic_type完全一致/前方一致/あいまい
出願人 (JP:最新)AMAPPapm_applicants完全一致/前方一致/あいまい
出願人 識別番号 (JP:最新)AMAPPCDapm_applicant_codes完全一致/前方一致/あいまい
出願人 国 (JP:最新)AMAPPCNTapm_applicant_countries完全一致/前方一致/あいまい
出願人 都道府県 (JP:最新)AMAPPPRFapm_applicant_prefectures完全一致/前方一致/あいまい
出願人数 (JP:最新)AMAPPCapm_applicants_count完全一致/範囲/不等号
代理人 (JP:最新)AMATTapm_attorneys完全一致/前方一致/あいまい
特許事務所 (JP:最新)AMATTOapm_attorney_offices完全一致/前方一致/あいまい
発明者 (JP:最新)AMINVapm_inventors完全一致/前方一致/あいまい
発明者数 (JP:最新)AMINVCapm_inventors_count完全一致/範囲/不等号
発明者 国 (JP:最新)AMINVCNTapm_inventor_countries完全一致/前方一致/あいまい
発明者 都道府県 (JP:最新)AMINVPRFapm_inventor_prefectures完全一致/前方一致/あいまい
出願人 (JP:出願)APAPPapp_applicants完全一致/前方一致/あいまい
付与前異議決定の種別 (旧制度) (JP)AMOPKNDapm_opposition_kinds完全一致/前方一致/あいまい
付与前異議申立人 (旧制度) (JP)AMOPapm_opponents完全一致/前方一致/あいまい
付与前異議申立代理人 (旧制度) (JP)AMOPATTapm_opposition_attorneys完全一致/前方一致/あいまい
出願人 識別番号 (JP:出願)APAPPCDapp_applicant_codes完全一致/前方一致/あいまい
出願人 国 (JP:出願)APAPPCNTapp_applicant_countries完全一致/前方一致/あいまい
出願人 都道府県 (JP:出願)APAPPPRFapp_applicant_prefectures完全一致/前方一致/あいまい
出願人数 (JP:出願)APAPPCapp_applicants_count完全一致/範囲/不等号
代理人 (JP:出願)APATTapp_attorneys完全一致/前方一致/あいまい
特許事務所 (JP:出願)APATTOapp_attorney_offices完全一致/前方一致/あいまい
発明者 (JP:出願)APINVapp_inventors完全一致/前方一致/あいまい
発明者 国 (JP:出願)APINVADapp_inventor_countries完全一致/前方一致/あいまい
発明者 都道府県 (JP:出願)APINVPRFapp_inventor_prefectures完全一致/前方一致/あいまい
出願人 (JP:付与)GRAPPgrant_applicants完全一致/前方一致/あいまい
出願人 識別番号 (JP:付与)GRAPPCDgrant_applicant_codes完全一致/前方一致/あいまい
出願人 国 (JP:付与)GRAPPCNTgrant_applicant_countries完全一致/前方一致/あいまい
出願人 都道府県 (JP:付与)GRAPPPRFgrant_applicant_prefectures完全一致/前方一致/あいまい
出願人数 (JP:付与)GRAPPCgrant_applicants_count完全一致/範囲/不等号
代理人 (JP:付与)GRATTgrant_attorneys完全一致/前方一致/あいまい
特許事務所 (JP:付与)GRATTOgrant_attorney_offices完全一致/前方一致/あいまい
発明者 (JP:付与)GRINVgrant_inventors完全一致/前方一致/あいまい
発明者 国 (JP:付与)GRINVCgrant_inventor_countries完全一致/前方一致/あいまい
発明者 都道府県 (JP:付与)GRINVPRFgrant_inventor_prefectures完全一致/前方一致/あいまい
権利者 (JP:最新)RMHrgm_holders完全一致/前方一致/あいまい
権利者 識別番号 (JP:最新)RMHCDrgm_holder_codes完全一致/前方一致/あいまい
権利者 国 (JP:最新)RMHCNTrgm_holder_countries完全一致/前方一致/あいまい
権利者 都道府県 (JP:最新)RMHPRFrgm_holder_prefectures完全一致/前方一致/あいまい
権利者数 (JP:最新)RMHCrgm_holders_count完全一致/範囲/不等号
審判記録 中間コード (JP)AECaem_appeal_codes完全一致/前方一致/あいまい
審判記録 拒絶理由条文コード (JP)AERCaem_rejection_codes完全一致/前方一致/あいまい
審判記録 拒絶理由通知書 発送日 (JP)AERDaem_rejection_dates完全一致/範囲/不等号
審判記録 拒絶理由通知書 最終発送日 (JP)AERLDaem_rejection_last_date完全一致/範囲/不等号
審判記録 無効理由条文コード (JP)AEICaem_invalidation_codes完全一致/前方一致/あいまい
審判記録 無効理由通知書 発送日 (JP)AEIDaem_invalidation_dates完全一致/範囲/不等号
審判記録 無効理由通知書 最終発送日 (JP)AEILDaem_invalidation_last_date完全一致/範囲/不等号
審判番号 (JP)AENaem_appeal_numbers完全一致/前方一致/あいまい
審級等の種別 (JP)AEIaem_kind_of_instances完全一致/前方一致/あいまい
審判種別 (JP)AEAaem_kind_of_appeals完全一致/前方一致/あいまい
審判最終処分種別 (JP)AEDIaem_kind_of_disposition_in_appeals完全一致/前方一致/あいまい
審判結論コード (JP)AECSaem_appeal_conclusions完全一致/前方一致/あいまい
審判請求人 (JP)AELaem_licensees完全一致/前方一致/あいまい
審判請求代理人 (JP)AELATTaem_licensee_attorneys完全一致/前方一致/あいまい
審判被請求人 (JP)AEDEaem_defendants完全一致/前方一致/あいまい
審判被請求代理人 (JP)AEDEATTaem_defendant_attorneys完全一致/前方一致/あいまい
審判異議申立人 (JP)AEOPaem_opponents完全一致/前方一致/あいまい
審判異議申立代理人 (JP)AEOPATTaem_opposition_attorneys完全一致/前方一致/あいまい
名称 (EN) (Patent Abstract of Japan)JENTIen_title部分一致/近傍
要約 (EN) (Patent Abstract of Japan)JENABen_abstract部分一致/近傍
出願人 (EN) (Patent Abstract of Japan)JENAPPen_applicants完全一致/前方一致/あいまい
発明者 (EN) (Patent Abstract of Japan)JENINVen_inventors完全一致/前方一致/あいまい
国等の委託研究の成果に係る記載事項INDLindustrial_laws部分一致/近傍
USPCクラスUSPCCLSuspc_classes完全一致/前方一致/あいまい
USPCUSPCuspcs完全一致/前方一致/あいまい
USPCクラス (意匠)USDCCLSus_design_code_classes完全一致/前方一致/あいまい
USPC (意匠)USDCus_design_codes完全一致/前方一致/あいまい
ロカルノ分類LOClocarnos完全一致/前方一致/あいまい
譲受人 (US:付与)USGRASSus_grant_assignees完全一致/前方一致/あいまい
譲受人数 (US:付与)USGRASSCus_grant_assignees_count完全一致/範囲/不等号
譲受人 国 (US:付与)USGRASSCNTus_grant_assignee_countries完全一致/前方一致/あいまい
出願人 (US:付与)USGRAPPus_grant_applicants完全一致/前方一致/あいまい
出願人数 (US:付与)USGRAPPCus_grant_applicants_count完全一致/範囲/不等号
出願人 国 (US:付与)USGRAPPCNTus_grant_applicant_countries完全一致/前方一致/あいまい
代理人/事務所 (US:付与)USGRATTus_grant_attorneys完全一致/前方一致/あいまい
発明者 (US:付与)USGRINVus_grant_inventors完全一致/前方一致/あいまい
譲受人 (US:出願)USAPASSus_app_assignees完全一致/前方一致/あいまい
譲受人数 (US:出願)USAPASSCus_app_assignees_count完全一致/範囲/不等号
譲受人 国 (US:出願)USAPASSCNTus_app_assignee_countries完全一致/前方一致/あいまい
出願人 (US:出願)USAPAPPus_app_applicants完全一致/前方一致/あいまい
出願人数 (US:出願)USAPAPPCus_app_applicants_count完全一致/範囲/不等号
出願人 国 (US:出願)USAPAPPCNTus_app_applicant_countries完全一致/前方一致/あいまい
代理人/事務所 (US:出願)USAPATTus_app_attorneys完全一致/前方一致/あいまい
発明者 (US:出願)USAPINVus_app_inventors完全一致/前方一致/あいまい
譲受人 (EP)EPPRPep_proprietors完全一致/前方一致/あいまい
譲受人数 (EP)EPPRPCep_proprietors_count完全一致/範囲/不等号
譲受人 国 (EP)EPPRPCNTep_proprietor_countries完全一致/前方一致/あいまい
出願人 (EP:付与)EPGRAPPep_grant_applicants完全一致/前方一致/あいまい
出願人数 (EP:付与)EPGRAPPCep_grant_applicants_count完全一致/範囲/不等号
出願人 国 (EP:付与)EPGRAPPCNTep_grant_applicant_countries完全一致/前方一致/あいまい
代理人/事務所 (EP:付与)EPGRATTep_grant_attorneys完全一致/前方一致/あいまい
発明者 (EP:付与)EPGRINVep_grant_inventors完全一致/前方一致/あいまい
出願人 (EP:出願)EPAPAPPep_app_applicants完全一致/前方一致/あいまい
出願人数 (EP:出願)EPAPAPPCep_app_applicants_count完全一致/範囲/不等号
出願人 国 (EP:出願)EPAPAPPCNTep_app_applicant_countries完全一致/前方一致/あいまい
代理人/事務所 (EP:出願)EPAPATTep_app_attorneys完全一致/前方一致/あいまい
発明者 (EP:出願)EPAPINVep_app_inventors完全一致/前方一致/あいまい
出願人 (WO)WOAPPwo_applicants完全一致/前方一致/あいまい
出願人 国 (WO)WOAPPCNTwo_applicant_countries完全一致/前方一致/あいまい
代理人/事務所 (WO)WOATTwo_attorneys完全一致/前方一致/あいまい
発明者 (WO)WOINVwo_inventors完全一致/前方一致/あいまい
出願人 (DOCDB)DCAPPdocdb_applicants完全一致/前方一致/あいまい
出願人 (DOCDB:オリジナル)DCOAPPdocdbo_applicants完全一致/前方一致/あいまい
出願人 国 (DOCDB)DCAPPCNTdocdb_applicant_countries完全一致/前方一致/あいまい
発明者 (DOCDB)DCINVdocdb_inventors完全一致/前方一致/あいまい
発明者 国 (DOCDB)DCINVCNTdocdb_inventor_countries完全一致/前方一致/あいまい
優先権主張番号 (DOCDB)DCPRNdocdb_priority_claims完全一致/前方一致/あいまい
優先国 (DOCDB)DCPRCNTdocdb_priority_countries完全一致/前方一致/あいまい
優先日 (DOCDB)DCPRDdocdb_priority_dates完全一致/範囲/不等号
パテントファミリー 出願番号DCFMfamilies完全一致/前方一致/あいまい
パテントファミリー 出願国DCFMCNTfamily_countries完全一致/前方一致/あいまい
公開番号 (DOCDB)DCPNSdocdb_pub_ids完全一致/前方一致/あいまい
公開番号 (DOCDB:オリジナル)DCPNOSdocdb_pub_idos完全一致/前方一致/あいまい
公開番号 (DOCDB:DOCDB形式)DCPNDSdocdb_pub_idds完全一致/前方一致/あいまい
公開種別 (DOCDB)DCKNDdocdb_kinds完全一致/前方一致/あいまい
公開日 (DOCDB)DCPDSdocdb_pub_dates完全一致/範囲/不等号
引用特許 (DOCDB)DCCITEDANdocdb_cited_patents完全一致/前方一致/あいまい
引用特許種別 (DOCDB)DCCITEDPHdocdb_cited_patent_phases完全一致/前方一致/あいまい
引用特許 起案日 (DOCDB)DCCITEDDdocdb_cited_patent_dates完全一致/範囲/不等号
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引用特許種別 審査官以外 (DOCDB)DCCITEDOTPHdocdb_cited_patent_phases_by_others完全一致/前方一致/あいまい
引用特許 起案日 審査官以外 (DOCDB)DCCITEDOTDdocdb_cited_patent_dates_by_others完全一致/範囲/不等号
被引用特許 (DOCDB)DCCCITINGANdocdb_citing_patents完全一致/前方一致/あいまい
被引用件数 (DOCDB)DCCITINGCdocdb_citing_count完全一致/範囲/不等号
引用件数 (DOCDB)DCCITEDCdocdb_cited_count完全一致/範囲/不等号
グループ開始 (括弧開)(((
グループ終了 (括弧閉))))
検索式タグTexpr_tagsexpr_tags
引用関係結合CNMcitation_mergeスペース区切りでオプションを指定します。"CITED=2 CITING=2 BOTH MAX_EDGES=2 REMOVE_ROOT EXCLUDE_SAME=apm_applicants INCLUDE_SAME=country"CITED: 引用世代数CITING:被引用世代数REMOVE_ROOT: 引用/非引用元を除外BOTH: 引用/被引用先の両方を結合MAX_EDGES: 最大接続数EXCLUDE_SAME: 同一値を除外INCLUDE_SAME: 同一値のみを対象
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