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2026.08.31

「2026知財・情報フェア＆コンファレンス」出展のお知らせ

『AI特許総合検索・分析プラットフォーム Patentfield』を展開するPatentfield株式会社（本社：京都市中京区、共同CEO：村上直也、石津孝祐）は、2026年9月16日（水）から18日（金）に開催される「2026知財・情報フェア＆コンファレンス」に出展します。

本年のブースでは、経済産業省・NEDO主催「GENIAC-PRIZE」特別賞「技術新規賞」を受賞した技術開発の成果を引き継ぐ、特許ドメイン特化の独自LLM「Dシリーズ」を初公開するほか、特許調査の各工程を生成AIが支援する新機能「AI検索サポート（仮）」を参考出展します。あわせて、Patentfieldの最新の進化をご紹介します。

出展内容

独自LLM「Dシリーズ」　参考出展

当社は2026年4月、経済産業省・NEDOによる懸賞金活用型プログラム「GENIAC-PRIZE」の領域02「官公庁等における審査業務等の効率化に資する生成AI開発」において、特別賞「技術新規賞」を受賞しました。本展示会では、受賞対象となった「審査官の思考プロセスを再現する特許先行技術調査支援AIシステム」の開発成果を引き継ぎ、特許ドメインに特化して自社開発を進めている独自LLM「Dシリーズ」を初公開します。

新機能「AI検索サポート（仮）」　参考出展

検索式の作成から文献の読解、検索集合の整理・分析まで、特許調査ワークフローの各工程を生成AIが一貫して支援するPatentfieldの新機能「AI検索サポート（仮）」を参考出展します。AIによる同義語拡張・特許分類提案・検索式の生成/改良、公報や図面の読解支援、出願人の名寄せ、検索母集合の解説・絞り込みなど、調査実務に寄り添ったAI支援機能です。

AI特許総合検索・分析プラットフォーム Patentfield

特許を、探す・読む・分析する。そのすべてをAIでもっと速く。Patentfieldは、先進AI技術で特許の調査・分析を革新するAI特許総合検索・分析プラットフォームです。生成AIが特許の核心を「用途・課題・効果・特徴」の4つの観点で要約・構造化した「AIサマリー」を国内外あわせて8,000万件収録し、特許を読むから「見る」に体験を変革します。海外公報（US/EP/WO/CN/KR/TW）を日本語で扱える「AIサマリーグローバル」を含め、ブースにてご体験いただけます。

生成AI調査・分析オプション「Patentfield AIR」

「生成AI調査・分析オプション Patentfield AIR」は、Patentfieldのインターフェースに生成AI機能を組み込むことで、大量の特許文献の査読・分析プロセスを大幅に効率化し、従来にないスピードで特許査読・分析を可能にするオプション機能です。

AIサマリーとの連携により生成AIにわたすテキスト量を公報全文の約1/45に圧縮し、AIコストと処理時間を大幅に節約しながら、大量特許の一括分析を実現します。さらに、インターネット上の情報も含めた、より高度な特許分析の支援が可能になりました。

出展者プレゼンテーション（聴講無料）

会期中毎日、出展者プレゼンテーションに登壇します。

特許調査/分析の生成AI活用：Patentfieldの新たな一手

9月16日（水）	11:25～12:10　P4会場
9月17日（木）	12:35～13:20　P5会場
9月18日（金）	12:35～13:20　P5会場

聴講には事前登録が必要です。昨年の出展者プレゼンテーションは満席となりました。お早めの登録をおすすめします。

来場・聴講の事前登録はこちら：https://portal.aimeet.jp/events/pifc2026/register

ブースのご案内（小間番号：3-A28）

ブース内セミナー（事前申込不要・参加無料）

Patentfieldブースでは、会期中毎日、1時間に1回の頻度でブース内セミナーを開催します。独自LLM「Dシリーズ」、新機能「AI検索サポート（仮）」、Patentfield、Patentfield AIRをコンパクトにご紹介します。事前申込は不要・参加無料ですので、お気軽にお立ち寄りください。

デモコーナー

専門スタッフがPatentfield・Patentfield AIRの実機デモを随時実施します。

事前のお申し込みは不要です。

・アカウント作成だけで全機能を利用できる「無料トライアル」をご案内

・会期後の個別オンラインデモ・お打ち合わせのご相談も承ります

2026知財・情報フェア＆コンファレンスについて
2026年9月16日(水)～18日(金)
場所：東京ビックサイト　東３ホール
URL：https://pifc.jp/2026/index.html
＊入場方法等の詳細につきましては、上記URLにてご参照ください。

本リリースに関するお問い合わせ
Patentfield株式会社
Patentfield受付事務局
Email：contact@patentfield.com

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